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人造鑽石-化學氣相沉積技術 Chemical Vapor Deposition


化學氣相沉積技術(Chemical Vapor Deposition,簡稱CVD)是一種用於製造人造鑽石的先進技術,最早於1950年被發明。這種技術的原理是利用碳等離子體的化學蒸氣,將碳原子沉積在鑽石基底上,逐步形成完整的人造鑽石結晶。
CVD技術的運作方式相對複雜。首先,將寶石胚種放置在高溫高壓的反應室中,通過導入特定氣體(如甲烷)和氫氣,創造出一個化學反應環境。這些氣體會在高溫下被分解,產生碳原子和其他有機氣體。接著,這些碳原子將在基底上沉積,逐漸堆積形成鑽石的結晶結構。
相比起高溫高壓法,CVD技術具有一些顯著的優勢。首先,這種方法成本相對較低,生產過程更容易控制,並且可以在相對較短的時間內完成。此外,CVD技術還能夠在更大的尺寸範圍內生產人造鑽石,提供更多的靈活性和多樣性選擇。
現代的CVD技術已經得到了極大的發展和改進。通過調整反應條件、氣體配比和其他參數,可以控制人造鑽石的色澤、純度和大小。這使得CVD製造的人造鑽石可以達到高品質的標準,甚至難以區分和天然鑽石。






上圖為CVD造出來的原石


上圖為CVD造出來的鑽石


   
 
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